Sistema pecvd de doble zona de temperatura deslizante precalentado a 1200 ° C

Aplicación del producto:dos

El sistema pecvd consiste en ionizar el gas que contiene los átomos que componen la película con la ayuda de la radiofrecuencia, formando un plasma localmente, y el plasma tiene una fuerte actividad química y es fácil reaccionar, depositando la película deseada en el sustrato.

Composición del producto:

Configuración del sistema pecvd:

Horno de tubo de vacío de doble temperatura abierto de 1.1200 grados

2. el sistema deslizante se divide en deslizamiento manual y eléctrico, y está equipado con un sistema de medición de temperatura en el tubo.

3. horno eléctrico tubular abierto de precalentamiento

4. fuente de alimentación de radiofrecuencia de plasma

5. sistema de control de flujo de masa multicanal

6. sistema de vacío (opcional con vacío medio o alto)

Características del producto:

Baja temperatura de crecimiento; La tasa de deposición es rápida; La calidad de la película es buena, el alcance de la aplicación es amplio y el equipo es simple.

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