Pequeño recubrimiento de pulverización de magnetrón de un solo objetivo

NegociableActualización en08/04

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Descripción general

Introducción simple: el pequeño medidor de recubrimiento de chorro de magnetrón de un solo objetivo es un equipo de recubrimiento de chorro de magnetrón rentable desarrollado independientemente por nuestra empresa, que tiene las características de miniaturización y estandarización. Los objetivos de control magnético se pueden seleccionar de 1 y 2 pulgadas, y los clientes pueden elegir de forma independiente de acuerdo con el tamaño del sustrato recubierto.

Detalles del producto

Introducción detallada:

El pequeño medidor de recubrimiento de chorro de magnetrón de un solo objetivo es un equipo de recubrimiento de chorro de magnetrón rentable desarrollado independientemente por nuestra empresa, que tiene las características de miniaturización y estandarización. Los objetivos de control magnético se pueden seleccionar de 1 pulgada y 2 pulgadas, y los clientes pueden elegir de forma independiente de acuerdo con el tamaño del sustrato recubierto; La fuente de alimentación es una fuente de alimentación de corriente continua de 150w, que se puede utilizar para el recubrimiento por pulverización metálica. El medidor de recubrimiento está equipado con una interfaz de ventilación para conectar gas protector, y si el cliente necesita conectar gas mixto, puede ponerse en contacto con el personal para configurar un medidor de flujo de alta calidad de alta precisión para satisfacer las necesidades experimentales. El instrumento está equipado de serie con un grupo avanzado de Bombas moleculares de turbina, con un vacío límite de hasta 1,0e - 5pa, mientras que hay otros tipos de Bombas moleculares disponibles para la compra.

Pequeño recubrimiento de pulverización de magnetrón de un solo objetivoámbito de aplicación:

El equipo se puede utilizar para preparar películas ferroeléctricas de una sola capa, películas conductoras, películas de aleación, etc. En comparación con equipos similares, el recubrimiento de pulverización de magnetrón de un solo objetivo, después de un diseño miniaturizado, altamente integrado y pequeño tamaño, se puede colocar sobre la Mesa para su uso, y es un equipo ideal para la preparación de películas de materiales en laboratorio.

Pequeño recubrimiento de pulverización de magnetrón de un solo objetivoParámetros técnicos:

Pequeño recubrimiento de pulverización de magnetrón de un solo objetivo
Mesa de muestras	Tamaño	φ138mm	Precisión del control de temperatura	±1Grados Celsius
Mesa de muestras	Temperatura de calentamiento	* alto500Grados Celsius	Velocidad de rotación	1-20rpmAjustable
Cabezal de pulverización de magnetrón	Cantidad	2” x1（1 ", 2"Opcional)	Especificaciones de la máquina de refrigeración por agua	10L/minEnfriador de agua circulante con velocidad de flujo
Cabezal de pulverización de magnetrón	Modo de enfriamiento	Refrigeración por agua
Cavidad de vacío	Tamaño de la cavidad	φ180mm × 215 mm	Ventana de Observación	Transparencia omnidireccional
Cavidad de vacío	Material de cavidad	Cuarzo de alta pureza	Modo de apertura	Desmontaje de la cubierta superior
Sistema de vacío	Modelo de producto	CY-GZK103-A	Interfaz de extracción de aire	KF40
	Bomba molecular	CY-600	Interfaz de escape	KF16
	Bomba de polo delantero	Bomba giratoria	Medición al vacío	Medidor de vacío compuesto
	Vacío límite	1.0E-5Pa	Fuente de alimentación	AC;220V 50/60Hz
	Tasa de extracción	Bombas moleculares:600L/S Bomba de película giratoria:1.1L/S Rendimiento integral de bombeo:20El vacío de minutos puede alcanzar:1.0E-3Pa
Configuración de la fuente de alimentación	Cantidad	Fuente de alimentación de corriente continua× 1	* gran potencia de salida	150W
Otros	Tensión de alimentación	AC220V,50Hz	Tamaño de toda la máquina	500 mm × 350 mm × 400 mm
	Potencia de toda la máquina	1,7kw (grupo de bomba de vacío 1,5kw + máquina local 0,2kw)	Peso de toda la máquina	30kg

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