Se establece un recubrimiento compuesto de pulverización de magnetrón / evaporación al vacío. ......

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Descripción general

Introducción simple: el equipo de recubrimiento compuesto de pulverización de control magnético / evaporación al vacío combina la tecnología de pulverización de control magnético con la tecnología de evaporación al vacío en el mismo equipo de recubrimiento, que no sólo utiliza la descarga de brillo del cátodo de pulverización de control magnético para salpicar y ionizar parcialmente los átomos del objetivo y depositarlos en El sustrato para formar una película, sino que también se puede utilizar en el vacío para derretir el chapado metálico con calentamiento por resistencia eléctrica y dejar que se evapore y deposite en el sustrato para formar una película. Aumenta el uso y la flexibilidad del equipo. El dispositivo se aplica a la metalización de superficies plásticas como la carcasa del teléfono móvil y a la deposición de películas no conductoras y películas de blindaje electromagnético.

Detalles del producto

Introducción detallada:

Chorro de magnetrón/.El equipo de recubrimiento compuesto de evaporación al vacío combina la tecnología de pulverización de magnetrón con la tecnología de evaporación al vacío en el mismo equipo de recubrimiento, que no sólo utiliza la descarga de brillo del cátodo de pulverización de magnetrón para salpicar y separar parcialmente los átomos del objetivo y depositarlos en el sustrato para formar una película, sino que también puede utilizar el calentamiento de resistencia en el vacío para derretir el chapado metálico y evaporarlo y depositarlo en el sustrato para formar una película. Aumenta el uso y la flexibilidad del equipo. El dispositivo se aplica a la metalización de superficies plásticas como la carcasa del teléfono móvil y a la deposición de películas no conductoras y películas de blindaje electromagnético.

Chorro de magnetrón/.El equipo de recubrimiento compuesto de evaporación al vacío está equipado con un dispositivo de tratamiento de plasma, un cátodo de pulverización de magnetrón de alta eficiencia y un dispositivo de evaporación de resistencia. el equipo tiene una velocidad de depósito rápida, una buena adherencia al recubrimiento, un recubrimiento delicado y denso, una alta limpieza de la superficie y una buena consistencia de uniformidad. La máquina realiza un control totalmente automatizado del proceso de recubrimiento, gran capacidad de carga, trabajo confiable, alta tasa calificada, bajo costo de producción y protección del medio ambiente Verde. El equipo es ampliamente utilizado en carcasas de computadoras, carcasas de teléfonos móviles, electrodomésticos y otras industrias, puede recubrir películas metálicas, películas de aleación, películas compuestas, películas transparentes (translúcidas), películas no conductoras, películas de blindaje electromagnético, etc.

Parámetros técnicos del equipo de recubrimiento compuesto de pulverización de magnetrón / evaporación al vacío:

Modelo de producto		Chorro de magnetrón/.Vapor al vacíoEquipo de recubrimiento compuesto para cabelloCY-MSE300S-DC
Mesa de muestras		Tamaño de la Mesa de muestras	φ185mm
		Precisión del control de temperatura	± 1Grados Celsius
		Velocidad de rotación	1-20rpmAjustable
		Corriente de pulverización	2~20mA
		Tensión de pulverización	1000V
		Fuente de vapor	Canasta de alambre de tungsteno
		* altas temperaturas	1700Grados Celsius
		Control preciso de la temperatura	Se puede configurar30Procedimiento de enfriamiento de elevación de sección, la precisión de control de temperatura es+ / - 1Grados Celsius
Cavidad de vacío		Tamaño de la cavidad	Phi 300mm × 300mm
		Ventana de Observación	φ100mm
		Material de cavidad	Acero inoxidable
		Modo de apertura	Apertura superior
Monitor de espesor de película	Componentes de monitoreo	Fuente de alimentación	DC5V（± 10%), * gran corriente400mA
		Resolución de frecuencia	± 003hz
		Resolución del espesor de la película	00136 Ö(aluminio)
		Precisión del espesor de la película	± 0,5%, dependiendo de las condiciones del proceso, especialmente la ubicación del sensor, el estrés del material, la temperatura y la densidad
		Velocidad de medición	100ms-1s/Veces, se puede configurar
		Alcance de la medición	500.000(aluminio)
		Cristal de sensor estándar	6MHz
		Interfaz informática	RS-232/485Interfaz serie (tasa de baud)1200、2400、4800、9600、19200、38400Se puede configurar, bits de datos:8, posición de parada:1, verificación: no)
		Salida analógica	8Resolución de bits,PWMSalida de modulación de ancho de pulso (coleccionista abierto o interior)5VSalida)
		Entorno de trabajo	Temperatura0 - 50Grados Celsius, humedad5%-85%RH, sin gotas de agua condensada
	Indicador	Fuente de alimentación de entrada	AC 220V ± 10%
		Fuente de alimentación de salida	DC 5V 3A
		Pantalla	12 × 2Tubo digital yLED
		Puerto de comunicación	RS-485(tasa de Baud1200、2400、4800、9600、19200、38400Se puede configurar, bits de datos:8Posición, posición de parada:1Posición , paridad: ninguno)
	Sonda	Frecuencia de chip aplicable	6MHz
		Tamaño del chip aplicable	Φ14mm
		Instalar la brida	CF35
		Tubería de agua de refrigeración	Φ3mm, longitud300mm、500mm、1000mm
		Presión del agua de refrigeración	<0.3MPa
		Tubo de carretera con deflector neumático	Φ3mm
		Temperatura de cocción	Estado de acceso al agua< 200Grados Celsius, brida sin agua< 100Grados Celsius
		Interfaz eléctrica	BCNEnchufe
Medidor de flujo de masa		2El camino; Rango100sccmV;100sccm(se pueden personalizar múltiples rutas de gas de acuerdo con las necesidades del cliente)
Sistema de vacío		Modelo de producto	CY-GZK103-A
		Interfaz de extracción de aire	KF40
		Bomba molecular	CY-600
		Interfaz de escape	KF16
		Bomba de polo delantero	Bomba giratoria
		Medición al vacío	Medidor de vacío compuesto
		Vacío límite	1.0E-5Pa
		Fuente de alimentación	AC;220V 50/60Hz
		Tasa de extracción	Bombas moleculares:600L/S Bomba de película giratoria:1.1L/S Rendimiento integral de bombeo:20El vacío de minutos puede alcanzar:1.0E-3Pa
Accesorios opcionales		Oro, indio, plata, platino y otros objetivos
Garantía de calidad		Garantía de un año, soporte técnico de por vida.

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